CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2004-2010年
γ射线对N-癸酰基吗啡啉萃取U(Ⅵ)的影响
杨兴存,包伯荣,曹卫国
2001-11-10
Source Publication辐射研究与辐射工艺学报
Issue04
Abstract研究了新型酰胺萃取剂N -癸酰基吗啡啉 (DMPHL)在硝酸介质中萃取U(Ⅵ )的辐照性能 ,考察了γ射线剂量以及在不同的酸度和稀释剂中γ射线对萃取U(Ⅵ )分配比的影响 ,结果发现 ,DMPHL比TBP具有较好的耐辐照性能 ,且其辐照降解产物对U(Ⅵ )的萃取能力较弱
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/10285
Collection中科院上海应用物理研究所2004-2010年
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GB/T 7714
杨兴存,包伯荣,曹卫国. γ射线对N-癸酰基吗啡啉萃取U(Ⅵ)的影响[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,2001(04).
APA 杨兴存,包伯荣,曹卫国.(2001).γ射线对N-癸酰基吗啡啉萃取U(Ⅵ)的影响.辐射研究与辐射工艺学报(04).
MLA 杨兴存,包伯荣,曹卫国."γ射线对N-癸酰基吗啡啉萃取U(Ⅵ)的影响".辐射研究与辐射工艺学报 .04(2001).
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