CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2004-2010年
一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板
李景烨; 黄庆; 邓波; 于洋; 吕敏
Date Available2013-01-23
Country中国
Subtype发明专利
Abstract本发明公开了一种周期性纳米结构高分子膜的制备方法,其包括下述步骤:(1)将高分子材料溶解在有机溶剂中,加热溶解得到铸模液;(2)将铸模液滴加到模板上,通过旋涂法在模板上制备得到湿态高分子膜;(3)将湿态高分子膜中的有机溶剂除去,至高分子膜为恒重后得到干态高分子膜;(4)在去离子水中通过超声震荡将干态高分子膜从模板上脱除,即得。本发明还提供了所述的周期性纳米结构高分子膜的制备方法中使用的模板。本发明的周期性纳米结构高分子膜的制备方法重复性好、制备速度快、简单易行且经济。
Subject AreaC08j5/18
Funding Project应物所课题组
Language中文
Status20120222 授权
Application NumberCN200910049959
Patent Agent薛琦 ; 朱水平
Document Type专利
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/10538
Collection中科院上海应用物理研究所2004-2010年
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GB/T 7714
李景烨,黄庆,邓波,等. 一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板.
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