CAS OpenIR  > 中科院上海原子核所2003年前
B掺杂对Ni原子溅射产额的影响
王震遐; 章骥平; 潘冀生; 陶振兰; 张慧明; 张伟坪; 卢兆伦
1991-10-28
Source Publication物理学报
Issue10
Abstract用卢瑟福背散射技术研究了Ni基体中掺B对离子溅射产额的影响。实验结果发现掺B后Ni原子的溅射产额Y比未掺B的纯Ni样品有明显减少。虽然这种溅射产额差值Y与Painter和Averill(P-A)理论模型分析结果定性符合;但实验产额减小值却大于P-A模型的预言。为解释实验结果;注意到溅射靶点表面形貌对减小或增大溅射产额的明显作用;认为实际的产额减小很可能是由于结合能和表面形貌等因素的协同效应。
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project原子核所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/10876
Collection中科院上海原子核所2003年前
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GB/T 7714
王震遐,章骥平,潘冀生,等. B掺杂对Ni原子溅射产额的影响[J]. 物理学报,1991(10).
APA 王震遐.,章骥平.,潘冀生.,陶振兰.,张慧明.,...&卢兆伦.(1991).B掺杂对Ni原子溅射产额的影响.物理学报(10).
MLA 王震遐,et al."B掺杂对Ni原子溅射产额的影响".物理学报 .10(1991).
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