高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n，p)反应双微分截面的试测

CAS OpenIR > 中科院上海原子核所2003年前

	高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n，p)反应双微分截面的试测
	张雪梅; 陈泽民; 梁伟; 唐国有; 张国辉; ＧｌｅｄｅｎｏｖＹｄ; ＫｈｕｕｋｈｅｎｋｈｕｕＧ; ＳｅｄｙｓｈｅｖａＭＶ
	1999-01-10
Source Publication	核技术
Issue	01
Abstract	介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试;并对５８Ｎｉ（ｎ;ｐ）试测结果进行了分析;结果证明此电离室和测量方法对（ｎ;ｐ）反应的测量是适用的。目前正用此电离室进行测量（ｎ;ｐ）反应截面的实验．
Indexed By	CNKI
Language	中文
Funding Project	原子核所项目组
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/11434
Collection	中科院上海原子核所2003年前
Recommended Citation GB/T 7714	张雪梅,陈泽民,梁伟,等. 高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n，p)反应双微分截面的试测[J]. 核技术,1999(01).
APA	张雪梅.,陈泽民.,梁伟.,唐国有.,张国辉.,...&ＳｅｄｙｓｈｅｖａＭＶ.(1999).高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n，p)反应双微分截面的试测.核技术(01).
MLA	张雪梅,et al."高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n，p)反应双微分截面的试测".核技术 .01(1999).

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Format:	Unknown

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