CAS OpenIR  > 中科院上海原子核所2003年前
聚乙炔离子注入掺杂及电性能的研究
林森浩; 鲍锦荣; 荣廷文; 盛康龙; 邹志宜; 朱新芳; 王玟珉; 万洪和; 沈之荃; 杨慕杰
1991-05-31
Source Publication中国科学(B辑 化学 生命科学 地学)
Issue05
Abstract本文用Ar~+;Fe~+;Cl~+;I~+;Na~+和K~+等离子束;在15—30keV能量范围内注入聚乙炔薄膜;剂量为1×10~(13)-3×10~(17)cm~(-2).借助红外光谱、卢瑟福背散射分析及四探针等测试方法;考察了离子注入诱导聚乙炔膜的化学结构及导电性能的变化;检测了化学掺杂与离子注入杂质的深度分布和p-n结的形成;并在此基础上探讨了离子束与聚合物相互作用过程的机理.
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project原子核所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/11699
Collection中科院上海原子核所2003年前
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GB/T 7714
林森浩,鲍锦荣,荣廷文,等. 聚乙炔离子注入掺杂及电性能的研究[J]. 中国科学(B辑 化学 生命科学 地学),1991(05).
APA 林森浩.,鲍锦荣.,荣廷文.,盛康龙.,邹志宜.,...&杨慕杰.(1991).聚乙炔离子注入掺杂及电性能的研究.中国科学(B辑 化学 生命科学 地学)(05).
MLA 林森浩,et al."聚乙炔离子注入掺杂及电性能的研究".中国科学(B辑 化学 生命科学 地学) .05(1991).
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