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硼靶制备技术的研究 | |
许国基; 魏永钦 | |
1999-07-20 | |
Source Publication | 原子能科学技术
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Issue | 04 |
Abstract | 介绍 B靶制备技术及其质量厚度测量方法。静电振动、高压电喷和离心沉淀主要用于制备有衬 B靶;而聚焦重离子束溅射和电子轰击可用来制备自支撑 B靶和有衬 B靶。 B靶的质量厚度用分光光度法和称重法测量。 |
Indexed By | CNKI |
Language | 中文 |
Funding Project | 原子核所项目组 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/11856 |
Collection | 中科院上海原子核所2003年前 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 许国基,魏永钦. 硼靶制备技术的研究[J]. 原子能科学技术,1999(04). |
APA | 许国基,&魏永钦.(1999).硼靶制备技术的研究.原子能科学技术(04). |
MLA | 许国基,et al."硼靶制备技术的研究".原子能科学技术 .04(1999). |
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硼靶制备技术的研究.caj(36KB) | 开放获取 | License | View Download |
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