硼靶制备技术的研究

CAS OpenIR > 中科院上海原子核所2003年前

	硼靶制备技术的研究
	许国基; 魏永钦
	1999-07-20
Source Publication	原子能科学技术
Issue	04
Abstract	介绍Ｂ靶制备技术及其质量厚度测量方法。静电振动、高压电喷和离心沉淀主要用于制备有衬Ｂ靶;而聚焦重离子束溅射和电子轰击可用来制备自支撑Ｂ靶和有衬Ｂ靶。Ｂ靶的质量厚度用分光光度法和称重法测量。
Indexed By	CNKI
Language	中文
Funding Project	原子核所项目组
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/11856
Collection	中科院上海原子核所2003年前
Recommended Citation GB/T 7714	许国基,魏永钦. 硼靶制备技术的研究[J]. 原子能科学技术,1999(04).
APA	许国基,&魏永钦.(1999).硼靶制备技术的研究.原子能科学技术(04).
MLA	许国基,et al."硼靶制备技术的研究".原子能科学技术 .04(1999).

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Format:	Unknown

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