Knowledge Management System Of Shanghai Institute of Applied Physics, CAS
| 钽电容器电介质层厚度的测量 | |
| 吴俊恒; 王玟珉; 张达明 | |
| 1982 | |
| Source Publication | 核技术
 |
| Issue | 05 |
| Abstract | <正> 金属钽片在阳极氧化处理过程中;在不同的电解液、电解电压及通电时间下;会形成不同厚度的Ta_2O_5层;即可制成各种不同耐压规格的钽电容器。钽基片上的Ta_2O_5层厚度与阳极氧化工艺之间的数量关系过去不太清楚。用离子束背散射方法便可很好地解决这一问题;并且具有简便、可靠、无需标准样品、不破坏样品等优点。钽片的阳极氧化处理一般有两种方法。一种是先预赋能;然后再赋能;另一种是不预赋能而仅 |
| Indexed By | CNKI |
| Language | 中文 |
| Funding Project | 原子核所项目组 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12032 |
| Collection | 中科院上海原子核所2003年前 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 吴俊恒,王玟珉,张达明. 钽电容器电介质层厚度的测量[J]. 核技术,1982(05). |
| APA | 吴俊恒,王玟珉,&张达明.(1982).钽电容器电介质层厚度的测量.核技术(05). |
| MLA | 吴俊恒,et al."钽电容器电介质层厚度的测量".核技术 .05(1982). |
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| 钽电容器电介质层厚度的测量.pdf（71KB） | 开放获取 | License | View Application Full Text | |||
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