CAS OpenIR  > 中科院上海原子核所2003年前
悬浮硼粉喷射法制备硼靶
严赐福; 吴解征
1983
Source Publication核技术
Issue03
Abstract<正> 一般制备同位素~(10)B靶;需要使用较大功率的电子枪;不然难以蒸发制备成靶;特别是厚靶。我们将硼粉制成悬浮状态;用小型玻璃喷雾器;将悬浮硼粉喷射到靶衬底上;制成了牢度较好、厚薄比较均匀的、直径为8~12mm、厚度为400~1500μg/cm~2的~(10)B靶;使用这种靶;成功地进行了实验工作;得到了比较满意的成果(见图1)。 硼的比重为1.73~2.34;一般呈无定形或结晶的粉末;放入液体会产生沉淀。因此;只有将粉末磨细;构成分布均匀的~(10)B悬浮液体;才能用悬浮喷雾法制靶。我们利用小型三轴球磨机进行滚磨;比较好地解决了硼粉的研磨问题(装置示意图见图2)。研磨瓶采用九五料硬质玻璃制成;尺寸见图3所示;内装φ15、φ10、φ5的玛瑙球各10个。这样能使硼粉得到充分的研磨。在研磨过程中;为了不使悬浮剂漏出来;必须用透明胶纸加以密封;并在密封罐外绕上二圈胶布防止在转动过程中打滑(见图4)。
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project原子核所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12180
Collection中科院上海原子核所2003年前
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GB/T 7714
严赐福,吴解征. 悬浮硼粉喷射法制备硼靶[J]. 核技术,1983(03).
APA 严赐福,&吴解征.(1983).悬浮硼粉喷射法制备硼靶.核技术(03).
MLA 严赐福,et al."悬浮硼粉喷射法制备硼靶".核技术 .03(1983).
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