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| 用反应溅射法制备无衬底的氮化钽薄靶 | |
| 曹德林; 魏永钦; 蒋立光 | |
| 1983 | |
| Source Publication | 核技术
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| Issue | 05 |
| Abstract | <正> 我们制备无衬底氮化钽薄靶的目的;是为着用核物理背散射实验法研究工业上生产的氮化钽薄膜的钽和氮的组份比;或它们的原子比。 众所周知;阴极溅射就是在真空室中把衬底片置于阳极上;靶材钽片作为阴极。在阳极和阴极间施加直流高压后;阳极和阴极之间便产生辉光放电;使惰性气体氩气电离所产生的正离子去轰击阴极表面;使靶材表面的原子从中逸出而沉积在衬底片表面上。而反应溅射就是在这种阴极溅射的同时;在惰性气体中有意混入一定量的反应性气体来获得反应生成物薄膜。如果使用氮气为反应性气体;那么得到的就是有衬底的氮化钽薄膜。若在衬底片表面上事先喷镀一薄层脱膜剂;如NaCl、CsI、Al、Cu等。把这种反应溅射后生成的氮化钽膜连同衬底片一起放入相应的溶剂或腐蚀剂中。待脱膜剂被溶解或腐蚀后;就得到无衬底的氮化钽薄膜。 |
| Indexed By | CNKI |
| Language | 中文 |
| Funding Project | 原子核所项目组 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12304 |
| Collection | 中科院上海原子核所2003年前 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 曹德林,魏永钦,蒋立光. 用反应溅射法制备无衬底的氮化钽薄靶[J]. 核技术,1983(05). |
| APA | 曹德林,魏永钦,&蒋立光.(1983).用反应溅射法制备无衬底的氮化钽薄靶.核技术(05). |
| MLA | 曹德林,et al."用反应溅射法制备无衬底的氮化钽薄靶".核技术 .05(1983). |
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| 用反应溅射法制备无衬底的氮化钽薄靶.ca（64KB） | 开放获取 | License | View Download | |||
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