CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2011-2020年
用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构
于海生; 黄宇营; 魏向军; 姜政; 王建强; 顾颂琦; 张硕; 高星
2011
Source Publication核技术
ISSN0253-3219
Issue7Pages:489-493
Abstract在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化。结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5 nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2 nm左右;Ni层厚度为1 nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。
Keyword掠入射 X射线吸收精细结构(Xafs) Ti/ni/ti薄膜 X射线反射(Xrr)
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12655
Collection中科院上海应用物理研究所2011-2020年
Recommended Citation
GB/T 7714
于海生,黄宇营,魏向军,等. 用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构[J]. 核技术,2011(7):489-493.
APA 于海生.,黄宇营.,魏向军.,姜政.,王建强.,...&高星.(2011).用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构.核技术(7),489-493.
MLA 于海生,et al."用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构".核技术 .7(2011):489-493.
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