CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2011-2019年
活性炭对氙的动态吸附性能及其结构表征分析
刘邃庆; 刘京; 钱渊; 曾友石; 杜林; 皮力; 刘卫
2013-05-10
Source Publication核技术
Issue5Pages:64-70
Abstract近年来,活性炭吸附放射性氙被越来越广泛应用于核电项目的尾气处理中。活性炭对氙的动态吸附系数与其孔结构关系甚大,而相关研究却很少,因此有必要研究二者的关系,为活性炭的选择与开发提供参考。本研究通过动态吸附平台测定温度为25C、表压为0时的四利活性炭对氙的动态吸附系数,并利用氮气吸附以及扫描电镜对活性炭进行分析表征。结果表明,比表面积为991.9 m~2/g的JH12-16活性炭对氙的动态吸附数最大,且活性炭对氙的动态吸附系数不和比表面积或孔容成正比关系。中孔和大孔对吸附氙只是起着通道作用,最佳吸附氙的孔径在0.55-0.60 nm。
Keyword活性炭 孔结构 微观形貌
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/13483
Collection中科院上海应用物理研究所2011-2019年
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GB/T 7714
刘邃庆,刘京,钱渊,等. 活性炭对氙的动态吸附性能及其结构表征分析[J]. 核技术,2013(5):64-70.
APA 刘邃庆.,刘京.,钱渊.,曾友石.,杜林.,...&刘卫.(2013).活性炭对氙的动态吸附性能及其结构表征分析.核技术(5),64-70.
MLA 刘邃庆,et al."活性炭对氙的动态吸附性能及其结构表征分析".核技术 .5(2013):64-70.
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