CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2011-2020年
永磁体外部磁场的不均匀性研究
何永周
2013
Source Publication物理学报
Issue8Pages:145-151
Abstract从永磁体的分子电流观点、退磁场、工艺等出发,以矩形永磁体为例,从理论上分析了影响永磁体外部磁场不均匀性的各种因素.研究结果表明,永磁体外部磁场宏观不均匀性(好场区均匀度和面积相对大小)和空间距离及永磁体的外形设计密切相关.退磁场对永磁体外部磁场微观不均匀性有着复杂影响.永磁体工艺如粉末颗粒、取向度、烧结凝固、机械加工等将影响永磁体外部磁场的不均匀性,如磁化偏角、对称性、光滑性等.
Keyword永磁体 外部磁场 不均匀性 退磁场
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/13574
Collection中科院上海应用物理研究所2011-2020年
Recommended Citation
GB/T 7714
何永周. 永磁体外部磁场的不均匀性研究[J]. 物理学报,2013(8):145-151.
APA 何永周.(2013).永磁体外部磁场的不均匀性研究.物理学报(8),145-151.
MLA 何永周."永磁体外部磁场的不均匀性研究".物理学报 .8(2013):145-151.
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