永磁体外部磁场的不均匀性研究

CAS OpenIR > 中科院上海应用物理研究所2011-2020年

	永磁体外部磁场的不均匀性研究
	何永周
	2013
Source Publication	物理学报
Issue	8 Pages:145-151
Abstract	从永磁体的分子电流观点、退磁场、工艺等出发,以矩形永磁体为例,从理论上分析了影响永磁体外部磁场不均匀性的各种因素.研究结果表明,永磁体外部磁场宏观不均匀性(好场区均匀度和面积相对大小)和空间距离及永磁体的外形设计密切相关.退磁场对永磁体外部磁场微观不均匀性有着复杂影响.永磁体工艺如粉末颗粒、取向度、烧结凝固、机械加工等将影响永磁体外部磁场的不均匀性,如磁化偏角、对称性、光滑性等.
Keyword	永磁体外部磁场不均匀性退磁场
Indexed By	CNKI
Language	中文
Funding Project	应物所项目组
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/13574
Collection	中科院上海应用物理研究所2011-2020年
Recommended Citation GB/T 7714	何永周. 永磁体外部磁场的不均匀性研究[J]. 物理学报,2013(8):145-151.
APA	何永周.(2013).永磁体外部磁场的不均匀性研究.物理学报(8),145-151.
MLA	何永周."永磁体外部磁场的不均匀性研究".物理学报 .8(2013):145-151.

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Format:	Unknown

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