一种用于单胞超导腔内表面化学抛光的磁搅拌装置
马震宇; 刘建飞; 侯洪涛; 封自强; 毛冬青; 罗琛
2014-05-08
专利权人中国科学院上海应用物理研究所
授权国家中华人民共和国
专利类型实用新型
摘要本实用新型提供一种用于单胞超导腔内表面化学抛光的磁搅拌装置,包括:围绕超导腔赤道外侧设置的可旋转的环形圆盘,所述圆盘中周向均匀分布有永磁铁,所述圆盘外侧套有同步带;通过所述永磁铁吸附于超导腔赤道内表面的磁性搅拌子;以及带有与所述同步带相配合的同步齿轮的发动机。本实用新型的用于单胞超导腔内表面化学抛光的磁搅拌装置,通过发动机带动围绕超导腔赤道外侧设置的环形圆盘旋转,于是周向均匀分布在圆盘中的永磁铁带动吸附于超导腔赤道内表面的磁性搅拌子随之旋转,可以简单直接地提高超导腔赤道处内表面的酸液流动速率,有效驱逐附着在内表面上的化学残渍和气泡,改善化学抛光效果,并且可以通过调节发动机转速控制化学反应速率。
分类号B01F13/08
专利号CN203944331
语种中文
申请号CN201420233937
文献类型专利
条目标识符http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/25418
专题中科院上海应用物理研究所2011-2018年
作者单位中国科学院上海应用物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
马震宇,刘建飞,侯洪涛,等. 一种用于单胞超导腔内表面化学抛光的磁搅拌装置. CN203944331[P]. 2014-05-08.
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