CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2011-2019年
Lu2SiO5:Ce3+透明薄膜制备及其发光性能研究
吴霜1; 刘波1; 陈士伟1; 张娟楠1; 刘小林1; 顾牡1; 黄世明1; 倪晨1; 薛超凡1
2016
Source Publication无机材料学报
ISSN1000-324X
Issue9Pages:42376
Subtype期刊文章
AbstractLu2Si O5:Ce3+薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战。本工作采用溶胶凝–胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的系统研究与分析,结果表明:在空气湿度为85%,溶胶水硅比为6.6条件下,适量添加PEG400,采用优化后最佳固含量,从450℃开始进行烧结程序后退火,可制备出具有透明、平整、无裂痕的高质量Lu2Si O5:Ce3+闪烁薄膜,单次旋涂获得的膜厚达到167 nm。实验表明水含量是引起薄膜发白的主要因素;烧结程序决定了薄膜的有机物分解程度及结晶状况;溶胶固含量及胶黏剂含量是调控薄膜厚度的重要方法。本工作为Lu2Si O5:Ce3+闪烁薄膜的实际应用奠定了基础。
KeywordLu2si O5:ce3+薄膜 水硅比 烧结程序 胶黏剂 固含量 发光性能
Indexed By其他
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/26179
Collection中科院上海应用物理研究所2011-2019年
Affiliation1.同济大学上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室物理科学与工程学院
2.中国科学院上海应用物理研究所
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GB/T 7714
吴霜,刘波,陈士伟,等. Lu2SiO5:Ce3+透明薄膜制备及其发光性能研究[J]. 无机材料学报,2016(9):42376.
APA 吴霜.,刘波.,陈士伟.,张娟楠.,刘小林.,...&薛超凡.(2016).Lu2SiO5:Ce3+透明薄膜制备及其发光性能研究.无机材料学报(9),42376.
MLA 吴霜,et al."Lu2SiO5:Ce3+透明薄膜制备及其发光性能研究".无机材料学报 .9(2016):42376.
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