CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2011-2020年
Si对Hastelloy N合金氧化行为的影响
郭伟杰; 李建树; 陆燕玲; 张继祥; 周兴泰
2019
Source Publication稀有金属材料与工程
Volume48Issue:03Pages:885-891
Subtype期刊论文
Abstract利用不连续增重法,研究了不同Si含量的Hastelloy N合金850℃恒温氧化行为。结果表明,随Si含量的增加,氧化动力学曲线保持抛物线规律。氧化100 h后,氧化膜出现分层现象,最外层均为NiO、NiFe_2O_4等复合氧化物,中间层为Cr_2O_3、MoO_2等氧化物。由于在氧化层与基体界面处形成连续致密的SiO_2层,有效阻止Cr离子向外扩散进入氧化层,促进Hastelloy N合金中间层形成较为致密的Cr_2O_3氧化层,提高了合金的抗氧化性能。
KeywordHastelloy N合金 高温氧化 Si 氧化动力学 氧化层
Indexed By其他
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/32297
Collection中科院上海应用物理研究所2011-2020年
Affiliation1.中国科学院上海应用物理研究所
2.重庆交通大学
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GB/T 7714
郭伟杰,李建树,陆燕玲,等. Si对Hastelloy N合金氧化行为的影响[J]. 稀有金属材料与工程,2019,48(03):885-891.
APA 郭伟杰,李建树,陆燕玲,张继祥,&周兴泰.(2019).Si对Hastelloy N合金氧化行为的影响.稀有金属材料与工程,48(03),885-891.
MLA 郭伟杰,et al."Si对Hastelloy N合金氧化行为的影响".稀有金属材料与工程 48.03(2019):885-891.
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