CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2004-2010年
高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步
刘江峰; 包良满; 李晓林
2009
Source Publication核技术
Issue6
Abstract在中国科学院上海应用物理研究所的扫描质子微探针装置上,研制了图形化扫描器,同时研究了适合质子束刻写的光刻胶制备、显影、定影技术。在此基础上,开展高能聚焦质子束无掩模刻写实验,在厚度约11μm的PMMA光刻胶上刻写出高纵横比的任意图案,取得了初步质子刻写结果,为进一步开展质子纳米束刻写奠定基础。
Keyword微结构 质子束刻写 无掩模 光刻胶
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/8369
Collection中科院上海应用物理研究所2004-2010年
Corresponding Author刘江峰
Recommended Citation
GB/T 7714
刘江峰,包良满,李晓林. 高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步[J]. 核技术,2009(6).
APA 刘江峰,包良满,&李晓林.(2009).高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步.核技术(6).
MLA 刘江峰,et al."高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步".核技术 .6(2009).
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