CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2004-2010年
核黄素光敏损伤端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基机理研究
刘玉侠; 杜富强; 林维真; 屠铁城; 李文新; 林念芸
2008-01-15
Source Publication自然科学进展
Issue01
Abstract采用电子自旋共振(ESR)消减法及光切割法对核黄素激发三重态单电子氧化寡聚核苷酸的机理进行了探讨.结果表明:UVA光照下,作为内源性光敏剂的核黄素能够高效切割端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基用于合成端粒DNA的模版区,从根本上阻断端粒酶维持癌细胞端粒DNA长度的反转录过程,促使癌细胞凋亡.
Keyword端粒 端粒酶 核黄素(Rb) Esr自旋消减法 激发三重态
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9068
Collection中科院上海应用物理研究所2004-2010年
Corresponding Author刘玉侠
Recommended Citation
GB/T 7714
刘玉侠,杜富强,林维真,等. 核黄素光敏损伤端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基机理研究[J]. 自然科学进展,2008(01).
APA 刘玉侠,杜富强,林维真,屠铁城,李文新,&林念芸.(2008).核黄素光敏损伤端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基机理研究.自然科学进展(01).
MLA 刘玉侠,et al."核黄素光敏损伤端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基机理研究".自然科学进展 .01(2008).
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