CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2004-2010年
用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
朱丹峰; 杜光天; 郭盘林; 朱周侠; 朱希恺; 傅云清; 胡伟; 邹亚明
2008-02-10
Source Publication核技术
Issue02
Abstract为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示,合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到108~109/cm3。
KeywordMevva离子源 电子束离子阱 离子注入
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9115
Collection中科院上海应用物理研究所2004-2010年
Corresponding Author朱丹峰
Recommended Citation
GB/T 7714
朱丹峰,杜光天,郭盘林,等. 用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验[J]. 核技术,2008(02).
APA 朱丹峰.,杜光天.,郭盘林.,朱周侠.,朱希恺.,...&邹亚明.(2008).用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验.核技术(02).
MLA 朱丹峰,et al."用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验".核技术 .02(2008).
Files in This Item:
File Name/Size DocType Version Access License
用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离(530KB) 开放获取--View Application Full Text
Related Services
Recommend this item
Bookmark
Usage statistics
Export to Endnote
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[朱丹峰]'s Articles
[杜光天]'s Articles
[郭盘林]'s Articles
Baidu academic
Similar articles in Baidu academic
[朱丹峰]'s Articles
[杜光天]'s Articles
[郭盘林]'s Articles
Bing Scholar
Similar articles in Bing Scholar
[朱丹峰]'s Articles
[杜光天]'s Articles
[郭盘林]'s Articles
Terms of Use
No data!
Social Bookmark/Share
File name: 用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验.pdf
Format: Adobe PDF
All comments (0)
No comment.
 

Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.