CAS OpenIR  > 中科院上海应用物理研究所2004-2010年
电导法研究紫外光预辐照对核孔膜径迹蚀刻的影响
段敬来,刘杰,朱智勇,王志光,孙友梅,侯明东,金运范,姚会军,宋银,赵志明,姚存峰; 段敬来
2005-09-10
Source Publication核技术
Issue09
Abstract利用紫外光辐照聚碳酸酯(PC)离子径迹膜,研究光辐照对于核孔膜蚀刻过程的影响。实验结果显示,紫外光照射对核孔膜的蚀刻有着重要的作用,它可以有效地增加径迹的蚀刻速率,并且径迹蚀刻速率随紫外光照时间的增加呈线性增长关系,此现象是由于光降解作用引起的。本文还介绍了用于监测核孔膜蚀刻过程的电导测量方法,利用此方法可以得出核孔膜径迹蚀刻速率、孔径随蚀刻时间变化等关系。
Keyword核孔膜 聚碳酸酯 紫外辐照 电导法
Indexed ByCNKI
Language中文
Funding Project应物所项目组
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9156
Collection中科院上海应用物理研究所2004-2010年
Corresponding Author段敬来
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GB/T 7714
段敬来,刘杰,朱智勇,王志光,孙友梅,侯明东,金运范,姚会军,宋银,赵志明,姚存峰,段敬来. 电导法研究紫外光预辐照对核孔膜径迹蚀刻的影响[J]. 核技术,2005(09).
APA 段敬来,刘杰,朱智勇,王志光,孙友梅,侯明东,金运范,姚会军,宋银,赵志明,姚存峰,&段敬来.(2005).电导法研究紫外光预辐照对核孔膜径迹蚀刻的影响.核技术(09).
MLA 段敬来,刘杰,朱智勇,王志光,孙友梅,侯明东,金运范,姚会军,宋银,赵志明,姚存峰,et al."电导法研究紫外光预辐照对核孔膜径迹蚀刻的影响".核技术 .09(2005).
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