Knowledge Management System Of Shanghai Institute of Applied Physics, CAS
低能Ar离子束辅助沉积Ag(111)薄膜 | |
江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,柳襄怀,郑里平; 江炳尧 | |
2005-01-10 | |
Source Publication | 核技术
![]() |
Issue | 01 |
Abstract | 采用低能Ar离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)基底上制备Ag膜。实验发现,用Ar离子束溅射沉积的Ag膜呈(111)择优取向。若在溅射沉积Ag膜的同时,用能量为500eV的Ar离子束沿衬底法线方向对Ag膜进行辅助轰击,当离子/原子到达比为0.06时,Ag膜呈(111)择优取向;当离子/原子到达比增大到0.18时,Ag膜呈(111)和(100)混合晶向。若Ar离子的入射角为35.26°,离子/原子到达比为0.06时,Ag膜呈(111)择优取向;当离子/原子比增大到0.18时,Ag膜呈(111)和微弱的(100)混合晶向。若Ar离子的入射角为54.7°,离子/原子到达比为0.06时,沉积的Ag膜呈很强的(111)择优取向。 |
Keyword | 离子束辅助沉积 Ag膜 沟道效应 择优取向 |
Indexed By | CNKI |
Funding Project | 应物所项目组 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9281 |
Collection | 中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
Corresponding Author | 江炳尧 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,柳襄怀,郑里平,江炳尧. 低能Ar离子束辅助沉积Ag(111)薄膜[J]. 核技术,2005(01). |
APA | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,柳襄怀,郑里平,&江炳尧.(2005).低能Ar离子束辅助沉积Ag(111)薄膜.核技术(01). |
MLA | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,柳襄怀,郑里平,et al."低能Ar离子束辅助沉积Ag(111)薄膜".核技术 .01(2005). |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
低能Ar离子束辅助沉积Ag_111_薄膜(263KB) | 开放获取 | -- | View Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment