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上海光源BL14W1线站掠入射XAFS方法的实现及应用研究 | |
于海生 | |
Subtype | 硕士 |
Thesis Advisor | 黄宇营 |
2011-05 | |
Degree Grantor | 中国科学院研究生院 |
Degree Discipline | 核技术及应用 |
Classification | O434.19 |
Keyword | 掠入射 Xafs 薄膜 |
Abstract | Ni/Ti多层膜是中子超反射镜光学元件中最重要的材料组合之一,一直以来得到了极大的关注,界面条件在很大程度上决定了超反射镜的质量。通过磁控溅射方法制备的Ti/Ni/Ti薄膜界面处晶化程度很差,存在不同膜层元素的混合与扩散,缺乏有效的表征薄膜界面结构的手段。本文首次运用XRR和掠入射XAFS相结合的方法研究了Ti/Ni/Ti薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化,采用Ni foil和NiTi相互扩散混合相的两相结构模型对反射率和吸收谱进行了拟合计算,结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2nm左右;Ni层厚度为1nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。实验结果证明,上海光源XAFS线站掠入射系统性能稳定可靠,可以用于薄膜表面及界面的结构研究。 |
Funding Project | 应物所项目组 |
Language | 中文 |
Document Type | 学位论文 |
Identifier | http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9683 |
Collection | 中科院上海应用物理研究所2011-2020年 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 于海生. 上海光源BL14W1线站掠入射XAFS方法的实现及应用研究[D]. 中国科学院研究生院,2011. |
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于海生硕士学位论文.pdf(1557KB) | 开放获取 | -- | Application Full Text |
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