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用高分辨率沟道背散射谱仪研究硅的低能氮离子氮化 期刊论文
物理学报, 1990, 期号: 08
Authors:  朱德彰;  潘浩昌;  曹建清;  朱福英;  陈国明;  陈国樑;  杨絜;  邹世昌
Unknown(149Kb)  |  Favorite  |  View/Download:134/26  |  Submit date:2013/01/23
低能离子溅射引起表面损伤的研究 期刊论文
核技术, 1986, 期号: 07
Authors:  周祖尧;  任琮欣;  陈国明;  胡嘉增;  杨洁;  傅新定;  邹世昌;  朱德彰;  曹德新
Unknown(182Kb)  |  Favorite  |  View/Download:132/37  |  Submit date:2013/01/23
用沟道技术研究反应离子束刻蚀所引起的晶体表面损伤 期刊论文
核技术, 1986, 期号: 03
Authors:  曹德新;  任琮欣;  杨洁;  周祖尧;  周伟;  邹世昌
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砷注入硅背散射沟道研究 期刊论文
核技术, 1981, 期号: 04
Authors:  曹德新;  朱德彰;  周祖尧;  胡嘉增;  戴仁之;  邹世昌
Unknown(232Kb)  |  Favorite  |  View/Download:147/20  |  Submit date:2013/01/23